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分子束外延系統主要功能的介紹
日期：2022-06-14 15:52
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摘要：
分子束外延系統為一種在物理學、化學、材料科學領域應用的分析儀器。近十幾年來在半導體工藝中發展起來的一項新技術包括分子束外延技術，其在超高真空條件下，類似于真空蒸發鍍把構成晶體的各個組分和予摻雜的原子(分子)，通過一定的熱運動速度，根據一定的比例由噴射爐中往基片上噴射去進行晶體外延生長而對單晶膜進行制備的一種方法。簡稱為MBE法
分子束外延系統主要功能
基于傳統的分子束外延（MBE）和脈沖激光沉積系統（PLD）發展出來了激光分子束外延系統（LMBE）。脈沖激光沉積系統（PLD）結合對原位監測進行提供的反射高能電子衍射儀（RHEED），使得與分子束外延系統（（MBE）類似的單原子層精度的薄膜生長得以實現。與分子束外延系統（（MBE）的熱蒸發相比較，其為通過脈沖激光的高能量蒸發甚至電離材料，所以被叫做激光分子束外延系統（LaserMBE）。激光分子束外延系統（LaserMBE）屬于優異薄膜制備設備，對于各種納米尺度的單層膜或多層膜的生長十分適用。